- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 9/00 - Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
Détention brevets de la classe G03F 9/00
Brevets de cette classe: 2489
Historique des publications depuis 10 ans
150
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211
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187
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181
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166
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58
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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ASML Netherlands B.V. | 6816 |
701 |
Canon Inc. | 36841 |
221 |
Nikon Corporation | 7162 |
183 |
ASML Holding N.V. | 542 |
127 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
98 |
Kioxia Corporation | 9847 |
45 |
Applied Materials, Inc. | 16587 |
44 |
Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | 243 |
43 |
KLA-Tencor Corporation | 2574 |
33 |
Carl Zeiss SMT GmbH | 2646 |
29 |
V Technology Co., Ltd. | 394 |
29 |
Changxin Memory Technologies, Inc. | 4732 |
28 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
26 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
22 |
FUJIFILM Corporation | 27102 |
19 |
KLA Corporation | 1223 |
18 |
Micronic Mydata AB | 73 |
16 |
Molecular Imprints, Inc. | 324 |
15 |
Micron Technology, Inc. | 24960 |
13 |
D2s, Inc. | 150 |
13 |
Autres propriétaires | 766 |